uv光解除臭設(shè)備凈化原理

uv光解廢氣處理設(shè)備一體機(jī)凈化原理是利用特制的高能高臭氧的UV紫外線光束的照射有機(jī)廢氣與TIO2光催化。催化裂解有機(jī)廢氣，如二氯丙烷乙、酯、異丙酯、氮、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯等分子結(jié)構(gòu)鏈條。uv光解廢氣處理設(shè)備一體機(jī)使有機(jī)或者無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線的照射下，降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物，如CO2,H2O等。

uv光解氧化廢氣處理的高能UV光束能有效裂解有機(jī)廢氣中的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），然后通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，以達(dá)到有機(jī)廢氣處理的目的。

uv光解除臭設(shè)備安裝步驟：

1.設(shè)備安裝前定位置。2.設(shè)備吊裝到位。3.安裝通風(fēng)管道。4.接線。5.用萬(wàn)用表檢查設(shè)備線路。6.檢查線路正常后送電，再檢查到設(shè)備的電壓是否正常。7.電壓正常后通電試機(jī)。

uv光解除臭設(shè)備保養(yǎng)維護(hù)：

設(shè)備保養(yǎng)方法一：一定要嚴(yán)格遵守廢氣處理加工工藝技術(shù)規(guī)范、安全規(guī)程和職位安全操作規(guī)程，這種技術(shù)規(guī)范是機(jī)構(gòu)生產(chǎn)與開(kāi)展實(shí)際操作的基礎(chǔ) 規(guī)范，是在生產(chǎn)和科學(xué)研究實(shí)踐活動(dòng)中匯總出來(lái)的系統(tǒng)性內(nèi)容。嚴(yán)格遵守這種規(guī)范是日常性正常運(yùn)行中關(guān)鍵的標(biāo)準(zhǔn) 。

設(shè)備保養(yǎng)方法二：盡量注重各崗位人員的互相配合，生產(chǎn)中通常因廢氣處理機(jī)器設(shè)備輔助工作中不正確。而產(chǎn)生危害正常生產(chǎn)的操作，如分析的不正確將造成投料量和原材料成份的更改 ；儀表盤(pán)的標(biāo)示不正確會(huì)蒙騙實(shí)際操作工作人員 ，促使操作過(guò)程標(biāo)準(zhǔn)大大的偏移工藝規(guī)程的規(guī)定。

維護(hù)保養(yǎng)方法三：務(wù)必認(rèn)真落實(shí)環(huán)保機(jī)械各類規(guī)章制度制度

uv光解除臭設(shè)備適用范圍：

印刷廢氣處理，噴漆房，工業(yè)有機(jī)廢氣處理，垃圾廠除惡臭等等。